三星HBM5锁定2纳米GAA工艺:速度较HBM4E提升50%以上
2026年7月27日,三星电子正式确认下一代HBM5内存将采用GAA结构的2纳米工艺,运行速度比HBM4E提升50%以上。这一技术突破将进一步巩固三星在AI内存领域的竞争力。
核心技术路线
三星半导体事业部技术开发室长具子铉在接受采访时表示,HBM5基础芯片将采用GAA(Gate-All-Around)晶体管结构的2纳米制程,并实现更高集成度的硅通孔(TSV)。
HBM技术演进对比
| 代际 | 工艺 | 速度提升 | 关键特性 |
|---|---|---|---|
| HBM4 | 4纳米 | 基准 | 当前主流 |
| HBM4E | 4纳米优化 | +25% | 能效优化 |
| HBM5 | 2纳米GAA | +50%以上 | 全新架构 |
三星的先发优势
三星计划基于HBM4的4纳米经验,提前在HBM5中引入2纳米工艺。目前三星代工部门已于去年下半年启动2纳米第一代工艺量产,并计划于今年下半年量产第二代2纳米工艺。
这一时间表领先竞争对手,三星将拓展与移动、AI、HPC、汽车电子、机器人等领域的客户合作,引领半导体生态系统发展。
AI算力竞赛的关键支撑
HBM内存是AI训练和推理的核心组件。随着大模型参数规模突破万亿级,对内存带宽和容量的需求呈指数级增长。HBM5的50%速度提升,将直接加速AI模型的训练和推理效率。
英伟达、AMD等AI芯片巨头已锁定HBM产能。SK海力士、三星、美光三家厂商的HBM竞争进入白热化阶段。
对中国AI产业的影响
长鑫科技作为中国DRAM龙头,已于7月27日登陆科创板,市值突破3.28万亿元。但HBM技术门槛更高,中国企业仍需追赶。三星HBM5的技术突破,将进一步拉大差距。
FAQ
Q1:GAA工艺相比传统FinFET有何优势?
GAA(Gate-All-Around)环绕栅极技术可提供更好的电流控制和更低的功耗,是2纳米及以下制程的核心技术。
Q2:HBM5速度提升50%意味着什么?
这意味着AI模型训练时间可大幅缩短,推理吞吐量显著提升,对大模型应用有直接价值。
Q3:三星在HBM市场的地位如何?
三星与SK海力士是HBM市场的主要竞争者。三星在先进制程上领先,SK海力士在HBM3E市场份额占优。
Q4:中国企业何时能突破HBM技术?
长鑫科技已量产DRAM,但HBM需要先进封装和特殊工艺。预计中国企业在HBM领域仍需3-5年追赶期。
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